(1) Trong cuộc đua thu nhỏ kích thước bóng bán dẫn để tuân theo Định luật Moore, công nghệ
(1) Trong cuộc đua thu nhỏ kích thước bóng bán dẫn để tuân theo Định luật Moore, công nghệ quang khắc cực tím (EUV - Extreme Ultraviolet) được ví như "chén thánh" của ngành công nghiệp bán dẫn. Khác với công nghệ DUV (Deep Ultraviolet) trước đây sử dụng ánh sáng có bước sóng 193nm, công nghệ EUV sử dụng ánh sáng có bước sóng cực ngắn, chỉ 13,5nm. Bước sóng ngắn hơn cho phép các nhà sản xuất in được các chi tiết mạch điện nhỏ hơn, phức tạp hơn trên tấm wafer silicon, từ đó tạo ra các con chip mạnh hơn và tiết kiệm điện năng hơn.
(2) Tuy nhiên, việc tạo ra và điều khiển tia EUV là một thách thức kỹ thuật khổng lồ. Vì tia EUV bị hấp thụ bởi hầu hết các loại vật chất, bao gồm cả không khí và thủy tinh, nên toàn bộ quá trình quang khắc phải diễn ra trong môi trường chân không tuyệt đối. Hơn nữa, hệ thống không thể sử dụng thấu kính hội tụ thông thường (vì thủy tinh hấp thụ EUV). Thay vào đó, các kỹ sư phải thiết kế một hệ thống quang học phản xạ phức tạp gồm các gương đa lớp tráng Molybdenum và Silicon được mài phẳng với độ chính xác cấp nguyên tử để dẫn hướng ánh sáng.
(3) Hiện tại, tập đoàn ASML (Hà Lan) là đơn vị duy nhất trên thế giới có khả năng chế tạo máy quang khắc EUV thương mại. Một cỗ máy EUV có kích thước bằng một chiếc xe buýt, nặng 180 tấn và có giá lên tới 200 triệu USD. Mặc dù đắt đỏ, nhưng đây là công nghệ bắt buộc để sản xuất các dòng chip tiên tiến dưới 7nm (nanomet) như Apple A-series hay chip của NVIDIA.
(Nguồn: Tổng hợp từ Tạp chí Tia Sáng và IEEE Spectrum)
Trả lời cho các câu 1, 2, 3, 4, 5 dưới đây:
Công nghệ quang khắc EUV sử dụng ánh sáng có bước sóng 13,5nm, ngắn hơn nhiều so với bước sóng 193nm của công nghệ DUV trước đó.
Đáp án đúng là: A
Đọc lướt đoạn (1) để tìm và so sánh các thông số kỹ thuật (con số) về bước sóng ánh sáng giữa hai công nghệ.
Đáp án cần chọn là: A
Trong hệ thống máy quang khắc EUV, các thấu kính thủy tinh đặc biệt được sử dụng để hội tụ và dẫn hướng ánh sáng lên tấm silicon.
Đáp án đúng là: B
Đọc hiểu đoạn (2), tập trung vào nguyên lý hệ thống quang học và tương tác giữa vật liệu (thủy tinh) với tia EUV.
Đáp án cần chọn là: B
Môi trường chân không tuyệt đối là điều kiện bắt buộc trong buồng máy quang khắc EUV để ngăn chặn sự hấp thụ năng lượng ánh sáng của các phân tử không khí.
Đáp án đúng là: A
Tìm mối quan hệ nguyên nhân - kết quả trong đoạn (2) liên quan đến môi trường vận hành máy.
Đáp án cần chọn là: A
Việc chuyển đổi sản xuất từ công nghệ DUV sang EUV giúp các nhà sản xuất chip giảm thiểu đáng kể chi phí đầu tư ban đầu cho hệ thống máy móc thiết bị.
Đáp án đúng là: B
Vận dụng thông tin về giá thành và độ phức tạp kỹ thuật trong đoạn (3) để suy luận về chi phí đầu tư (CAPEX).
Đáp án cần chọn là: B
Nếu một quốc gia muốn tự chủ hoàn toàn quy trình sản xuất các dòng chip hiện đại nhất (dưới 7nm) mà không phụ thuộc vào nhập khẩu công nghệ, họ buộc phải phá vỡ thế độc quyền của tập đoàn ASML hoặc phát triển một công nghệ thay thế EUV.
Đáp án đúng là: A
Tổng hợp thông tin toàn bài, đặc biệt là đoạn (3) về vai trò độc tôn của ASML và yêu cầu kỹ thuật bắt buộc của chip dưới 7nm để đưa ra kết luận logic.
Đáp án cần chọn là: A
Quảng cáo
Group 2K8 ôn Thi ĐGNL & ĐGTD Miễn Phí
>> 2K8 Chú ý! Lộ Trình Sun 2026 - 3IN1 - 1 lộ trình ôn 3 kì thi (Luyện thi 26+ TN THPT, 90+ ĐGNL HN, 900+ ĐGNL HCM, 70+ ĐGTD - Click xem ngay) tại Tuyensinh247.com.Đầy đủ theo 3 đầu sách, Thầy Cô giáo giỏi, luyện thi theo 3 giai đoạn: Nền tảng lớp 12, Luyện thi chuyên sâu, Luyện đề đủ dạng đáp ứng mọi kì thi.
 |
 |
 |
 |
 |
 |
 |
 |
Hỗ trợ - Hướng dẫn
-
024.7300.7989
-
1800.6947
(Thời gian hỗ trợ từ 7h đến 22h)
Email: lienhe@tuyensinh247.com
